11月18日下午3：00，第九届“勷勤论坛”物电分论坛学术讲座系列活动在云顶yd222线路检测大学城校区理六栋220室举办，此次邀请的主讲嘉宾是北京大学前沿交叉学科研究院徐小志博士，讲座主题为“二维材料（石墨烯、二硫化钼）的CVD生长及光谱学电子学表征”。我司经理唐志列教授参加并主持了此次讲座。

徐小志博士主要研究方向是二维材料（石墨烯、二硫化钼）的CVD生长及光谱学电子学表征，并在该领域取得了丰硕的成果，在国际权威期刊Nature Nanotechnology、Advanced Materials、AIP Advances等发表了数篇研究论文，申请国内专利五项。最近，徐博士所在团队即俞大鹏院士带领的纳米结构与低维物理研究团队在大单晶石墨烯的生长方面取得了新进展。

徐博士首先向我们介绍了他的研究团队及合作伙伴，接下来为我们详细讲解了他们团队最近的研究成果，利用CVD方法在1000度左右热解甲烷气体，把多晶铜衬底上石墨烯单晶的生长速度提高150倍，达到60μm/s。石墨烯生长速度的提高将推进它在各个领域的应用，并展望它成为新材料之王。最后徐博士对未来几年自己的科研规划做了一个展示。报告结束后，进入提问环节，在与徐博士充满学术氛围，充满思想碰撞的交流与讨论中，在座的各位都收获颇丰，并感受到了学术的无穷魅力。

徐博士的学术报告不仅开拓了我们的知识视野，还向我们展示了一种在科研道路上不断探索的精神。相信通过此次讲座，同学们对未来的科研道路更加充满斗志和信心！