报告题目：低维碳材料的结构，性质和生长机制的理论研究
报告人：袁清红研究员    华东师范大学
报告时间：2020年11月25日 15：00

报告地点：理六栋302      

邀请人：徐小志研究员  

报告内容：
低维碳材料发展面临的最为直接而迫切的挑战是如何实现这类材料高质量、大批量、低成本的化学合成。化学气相沉积（CVD）法被认为是有望实现高质量、低成本的低维碳材料大规模可控制备的最具潜力的方法。从原子尺度理解低维碳材料的生长机制将大大促进实验上对于材料的可控制备，而理论的最新进展和计算机的高速发展使得从原子尺度理解材料的生长过程成为可能。本报告将从理论和实验研究两个方面介绍我组在低维碳材料生长机制及性质调控方面的研究进展，内容包括1）碳纳米管的CVD生长机制；2）石墨烯的CVD生长机制及大面积单晶石墨烯的可控制备；3）二维碳氮材料的结构和性质调控。
个人简介： 
袁清红，华东师范大学研究员、紫江青年学者。2010年获香港中文大学理学博士学位，之后在香港理工大学从事博士后研究工作，2012 年加入华东师范大学物理系。2016年获澳大利亚自然基金DECRA人才项目资助并依托昆士兰大学开展科学研究。长期从事低维碳材料结构、性质以及生长机制的理论研究，揭示了若干类型低维碳纳米材料的关键生长机制，提出的理论被国内外多个课题组的后续实验结果证实。近年来主持国家自然科学基金和澳大利亚自然基金各两项。发表学术论文50 余篇，其中以第一或通讯作者发表的论文包括Nat. Mater.，Phys. Rev. Lett.，J. Am. Chem. Soc.，Angew. Chem. Int. Ed., Nano Letters，Sci. Adv., Adv. Funct. Mater.等。